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N2O(高純度亜酸化窒素)

半導体製造工程における絶縁酸化膜向けに高純度の亜酸化窒素を安定供給。増加する半導体用途に対応します。

品質規格

純度

99.999vol%以上

不純物

Contaminantsppmv
N2≦3
O2≦1
CO2≦1
CO≦0.1
CH4≦0.01
H2≦0.1
H2O≦1

※測定方法…ガスクロマトグラフ・水分計

物性

毒性、液体

外観無色の気体
臭気無臭
融点-102.3℃
沸点-88.5℃
蒸気圧31.3atm(0℃)
分子量44
許容濃度50ppm(TLV)

シリンダーインフォメーション

シリンダータイプ40L
充填量30kg
シリンダー材質マンガン鋼
バルブ仕様材質ステンレス鋼
形式ダイヤフラム式
口金22Φ・14山・右ネジ

注意事項:ご使用にあたりましては、弊社担当者にご相談いただき、製品安全データシート(MSDS)をご参照下さいますようお願い致します。


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