展示会情報

第11回 ISESH 幕張2004

2004年7月4日～8日、幕張メッセにおいてISESH2004が開催されます。これはESH関連の技術、手法について新しいアイデア、斬新的なアイデアについての意見交換を行う国際会議です。この会議は、WSC加盟のEECA-ESIA, JEITA, KSIA, SIA, TSIAが持ち回りで主催しており、本年はJEITAが主催、 EECA-ESIA,KSIA,SIA,TSIAが協賛して開催されます。本会議は、半導体工場、サプライヤ、研究施設の方のESHに関係する専門家のみなさんが参加されます。

弊社からは地球温暖化対策の一つとしてPFC回収装置について発表いたします。国内デバイスメーカの生産ラインにて実施したフィールドテストの結果など最新データについて紹介いたします。（担当：奥秀彦）

1. 日　時：2004年7月6日（火）11：30～12：00
2. 場　所：幕張メッセ国際会議場 3階 Room#：302
3. テーマ：半導体製造装置におけるPFC 回収システム

＜本件に関するお問い合わせ先＞
〒542-0081
大阪府大阪市中央区南船場4丁目2番4号
大同エアプロダクツ・エレクトロニクス株式会社
事業開発本部
TEL：06-6120-0913　FAX：06-6120-0920

2004.07.01

Semicon Japan 2003 出展のご案内

半導体関連業界を取り巻く環境は依然厳しいものがありますが、大型投資の発表もあり、今年後半に向かって回復の兆しが見えてまいりました。とはいうものの不透明な部分もあり、なかなか本格的な上昇に結びつかない状況です。
弊社はこのような時期にこそ、新規材料及び周辺機器に力を入れて行きたいと考えております。今年はお客様に新しいホットな情報をリリース致しますのでぜひ弊社ブースにお立ち寄りいただきます様、お願い申し上げます。

開催場所	：幕張メッセ
開催日	：2003年12月3日（水）～ 5日（金）
開催時間	：10：00AM ～ 5：00PM
ブース番号	：6-B403

出展内容：

◆	高純度窒素ガス発生装置（V1シリーズ）
◆	特殊材料ガス（NF3、N2O、WF6、SiH4、C2F6、GeH4、Z3MSTM、エキシマレーザーガス）
◆	バルク特殊ガス供給システム（BSGS）
◆	排ガス分析サービス（チャンバークリーニングの最適化、他）
◆	PFC代替ガスとPFC回収装置
◆	Schumacher製品（次世代材料、Low-k／High-k材料、ケミカル供給装置、他）
◆	エレクトロニクス向け研磨剤（CMPスラリー、ポリッシングスラリー）
◆	化合物半導体材料（Epichem 他）
◆	新型ガスキャビネット
◆	パルスチューブ冷凍機（GLOPUL）
◆	高真空エピタキシャル
◆	大気圧プラズマ装置
◆	マルチコレクター
◆	O-RING & 金型

＜本件に関するお問い合わせ先＞
大同エアプロダクツ・エレクトロニクス株式会社
〒542-0081
大阪市中央区南船場4丁目2番4号
日本生命御堂筋ビル6階
事業開発本部　中島洋子
TEL：06-6120-0913
FAX：06-6120-0920

2003.12.01

セミコン・ジャパン2002年出展のご案内

半導体関連業界を取り巻く環境は、今春底入れしたとの見方を示しておりますが、昨年に引き続き厳しい状況にあります。弊社はこのような時期にこそ、お客様のニーズに迅速に答えるべく、新商品の開発をめざしております。つきましては次世代プロセスを構築する新材料及び周辺機器を中心に今年の「セミコン・ジャパン2002」に出展する予定ですので、ご多忙のこととは存じますが、ぜひ弊社ブースにお立ち寄りいただきます様、お願い申し上げます。

開催場所	：幕張メッセ
開催日	：2002年12月4日（水）～ 6日（金）
開催時間	：10：00AM ～ 5：00PM
ブース番号	：6-B303
TEL / FAX	：043-296-4669

テーマ： Ask DAP first for what you need next!

出展内容：

◆	高純度窒素ガス発生装置（Ｖ1シリーズ）
◆	水素ガス発生装置（IMET）
◆	特殊材料ガス（NF3、N2O、WF6、SiH4、 C2F6、GeH4、Z3MS^TM、エキシマレーザーガス）
◆	バルク特殊ガス供給システム（BSGS）
◆	Schumacher製品（次世代材料、Low-k／High-k材料、ケミカル供給装置、他）
◆	エレクトロニクス向け研磨剤（CMPスラリー、ポリッシングスラリー）
◆	化合物半導体材料（Epichem、Solkatronic）
◆	排ガス分析サービス（チャンバークリーニングの最適化、他）
◆	新型ガスキャビネット
◆	パルスチューブ冷凍機（GLOPUL）
◆	高真空エピタキシャル成長装置（VCE）

2002.12.01

セミコン・ジャパン2001に出展：出展社セミナー開催のお報せ

導体関連業界を取り巻く環境は、年初来逆風の中にあり、未だ先が見えない状況と言われております。弊社は現在のこの停滞期こそ来るべき上昇期の為の準備期間と捕らえ、次世代向け商品開発に注力しています。つきましては、今年は特に新しい商品にフォーカスして「セミコン・ジャパン2001」に出展する運びとなりましたので、ご多忙のこととは存じますが、ぜひ弊社ブースにお立ちよりいただきます様お願い申し上げます。

開催場所	：幕張メッセ
開催日	：2001年12月5日（水）～ 7日（金）
開催時間	：10：00AM ～ 5：00PM
ブース番号	：6 - B302

テーマ： At DAP we are prepared for the upturn

出展内容：

◆	高純度窒素ガス発生装置（V1シリーズ）
◆	特殊材料ガス（NF3、N2O、WF6、SiH4、C2F6、GeH4、Z3MS、エキシマレーザーガス）
◆	バルク特殊ガス供給システム（BSGS）
◆	Schumacher製品（次世代材料、Low-k／High-ｋ材料、ケミカル供給装置、他）
◆	エレクトロニクス向け研磨剤（CMPスラリー、ウェハー研磨剤）
◆	化合物半導体材料(Epichem、Solkatronic、MCP）
◆	排ガス分析サービス（CVDチャンバークリーニングの最適化、他）
◆	新型ガスキャビネット
◆	パルスチューブ冷凍機(GLOPUL)
◆	高真空エピタキシャル成長装置（VCE）

＜出展社セミナー開催のお報せ＞
本会期中、弊社は出展社セミナーを開催いたします。DAPから提案する新しい技術について、この機会に是非ご拝聴いただけるようお願いいたします。

1. セミナー会場	：セミナールームIII 展示会場２階中央モール6ホール前テラス
2. 日時	：12月5日（水） 13:30～14:20
3. セミナーテーマ	：「CVDチャンバークリーニングプロセスの最適化」
（担当：奥秀彦）

＜本件に関するお問い合わせ先＞
大同エアプロダクツ・エレクトロニクス株式会社
〒542-0081 大阪市中央区南船場4丁目2番4号
日本生命御堂筋ビル6階
営業本部
TEL：06-6120-0912

2001.12.01

セミコン・ジャパン2000に出展（2000年12月6日（水）～8日（金））

弊社は、ガスからケミカルまでエレクトロニクスマテリアルのトータルサプライヤーとして自社技術に基づく開発製品や世界トップシェアを誇る優れた海外製品を提供して参りました。ハイスピードに変化するエレクトロニクス技術に追随すべく、弊社は新しい技術、製品、事業提携を展開しております。2000年度も皆様にこの製品群をご案内するため、「セミコン・ジャパン2000」に出展いたしたくさんの方に来場頂きました。

「たくさんの来場者で賑わうDAPブース」

開催場所	：幕張メッセ
開催日	：2000年12月6日（水）～ 8日（金）
開催時間	：10：00AM ～ 5：00PM
ブース番号	：6-A304

テーマ：
EVOLUTION
DAP: The one source for all your gas, chemical, equipment and service needs

出展内容：

◆	高純度窒素ガス発生装置（V1、V1X）
◆	特殊材料ガス（NF3、WF6、SiH4、エキシマレーザーガス、トリメチルシラン、C2F6）
◆	バルク特殊ガス供給システム（BSGS）
◆	Schumacher製品
◆	CMPスラリー
◆	化合物半導体材料(Epichem、Solkatronic）
◆	NF3用除害装置（E-Guard）
◆	PFC回収システム
◆	排ガス分析サービス
◆	ゲッター式精製機
◆	パルスチューブ冷凍機(GLOPUL)
	その他

2000.12.01