展示会情報

Semicon Japan 2010 出展のご案内～PFC回収装置デモ機展示のお知らせ～

近年、半導体・液晶市場においても温暖化対策は非常に重要な課題となっており、特にPFCガスの排出量削減については、各企業とも大きな悩みとなっています。大同エアプロダクツ・エレクトロニクス株式会社では、親会社であるエア・ウォーター株式会社とともに、PFC対策の中でもっとも有効な方法である「PFCガスのリサイクル」を可能にしたPFC回収装置の開発・販売を行っています。さらに、エア・ウォーター株式会社の開発したPFC精製装置と組み合わせることで「99.9%以上の高純度PFCガスのリサイクル」を可能にするシステムを構築することができます。

弊社は、セミコンジャパン２０１０にエア・ウォーターグループの一員として出展することとなり、これまでよりさらに小型化したPFC回収装置のデモ機をエア・ウォーターのブース内に展示させていただきます。また、同じブースにはPFC精製装置のデモ機も展示しておりますので是非エア・ウォーターのブースにお立ち寄りの上、実機をご覧いただきますようお願い申し上げます。

－記－

開催場所	：幕張メッセ
開催日	：2010年12月1日（水）～ 3日（金）
開催時間	：10：00AM ～ 5：00PM
ブース番号	：HALL6 6D-904

◆	【実機展示】新型PFC回収・精製装置（大同エアプロダクツ・エレクトロニクス株式会社と共同開発）
◆	【実機展示・実演】ドライアイススノー精密洗浄システム“Quick Snow”
◆	【実機展示】小型液体窒素製造装置
◆	【製品展示】Ｒ．Ｐｏｒｏｒｏｃａ（Oリング製品）（エア・ウォーター・マッハ株式会社）
◆	【実機展示】新型シリンダーキャビネットVSS-GC-MKII（エア・ウォーター・プラントエンジニアリング株式会社）
◆	大気圧プラズマ装置
◆	高純度アンモニア
◆	防振・吸音材料（エア・ウォーター・マッハ株式会社）

以上

＜本件に関するお問い合わせ先＞
〒592-8331
大阪府堺市西区築港新町２丁６番４０
大同エアプロダクツ・エレクトロニクス株式会社
製造・エンジニアリング本部　村上　康弘
TEL：072-244-6704 FAX：072-244-6702

2010.11.17

PV EXPO 2010 出展のご案内

グローバルな経済低迷の影響は、昨年に比べて多少は改善の兆候を見せてはいるものの、半導体、液晶市場では依然としてその影を引きずっているのが現状です。その中で、太陽電池市場は益々世界レベルでの競争が激化して来ており、日本としても国際競争力を真に問われています。弊社では、これまで培ってきた半導体、液晶製造における材料供給技術とノウハウを太陽電池製造に活用し、ユーザーが製造する太陽電池の性能向上、製造コスト（Cost of Ownership）低減への貢献を通じて、業界の更なる発展と国際競争力の強化にお役に立ちたいと考えています。

昨年に引き続き、「PV EXPO 2010」に出展しますので、どうか弊社ブースにお立ち寄りの上、係りの者にお声掛け下さい。

開催場所	：東京ビッグサイト　東展示棟
開催日	：2010年3月3日（水）～3月5日（金）
開催時間	：10:00 ～ 18:00 （5日のみ 17:00 終了）
ブース番号	：部品・材料ゾーン　24-3（エア・ウォーター株式会社との共同出展）

出展内容：

◆	セレン化水素（H2Se）及び特殊ガス大量供給システム（BSGS）
◆	オキシ塩化リン　バルク供給システム
◆	PFC回収・精製・再使用システム（エア・ウォーター社との共同出展）
◆	ドライアイススノーシステム「QuickSnow」（エア・ウォーター社）
◆	大気圧プラズマ表面処理装置
◆	電極材「ベルファイン」ならびに塗布電極「ATEC」（エア・ウォーター社）
◆	高純度アンモニア（エア・ウォーター社）

＜本件に関するお問い合わせ先＞
〒542-0081
大阪府大阪市中央区南船場4-2-4
大同エアプロダクツ・エレクトロニクス株式会社
社長室　西岡晴夫
TEL：06-6120-0911 FAX：06-6120-0920

2010.03.03

Semicon Japan 2009 出展のご案内

昨年世界中に波及したリセッションは、未だにその影響をあらゆる分野に及ぼしています。しかし一方では、太陽電池向けの投資が世界中で活発化している中、エレクトロニクス業界は、常に地球温暖化防止対策や資源材料の高騰という大きな問題に、高性能化と低価格化で対応しています。
弊社は、先行きが不透明な局面にあっても、半導体関連技術の動向を性能、経済、環境の3面から捉え、お客様のニーズに的確にお応えするソリューション（新規材料及び周辺機器）の提供に力を入れております。
どうか弊社ブースにお立ち寄りの上、最新・最先端の製品、技術をご覧いただきます様、お願い申し上げます。

開催場所	：幕張メッセ
開催日	：2009年12月2日（水）～ 4日（金）
開催時間	：10：00AM ～ 5：00PM
ブース番号	：6A-505

出展内容：

出展テーマ

「先進技術で未来と地球に貢献する
　PROGRESSIVE TECHNOLOGY ～ for environment & the future 」

◆	回収熱供給サービス
◆	特殊材料ガス（NF3、N2O、WF6、SiH4、C2F6、GeH4、NH3、H2Se、C3H6、Xe、Z3MSTM）
◆	バルク特殊ガス供給システム（BSGS）
◆	Schumacher製品（次世代材料、Low-k／High-k材料、ケミカル供給装置、他）
◆	化合物及びシリコン半導体用材料（SAFC HitechTM）
◆	有機金属供給装置（MOsupply）
◆	PFC回収・リサイクルシステム（大同エアプロダクツ・エレクトロニクス/エア・ウォーター社）
◆	新型シリンダーキャビネットVSS-GC-MKII（エア・ウォーター社）
◆	高純度アンモニア（エア・ウォーター社）
◆	CO2ドライスノー（エア・ウォーター社）
◆	大気圧プラズマ（エア・ウォーター社）
◆	O-リング（エア・ウォーター・マッハ社）
◆	制振材料（エア・ウォーター・マッハ社）

2009.12.01

PV EXPO 出展のご案内

急成長を遂げてきた太陽電池市場は、ここに来て若干のトーンダウンをしながらも地球温暖化対策の切り札として引き続き活発な投資が行われています。弊社ではこれまで培ってきた半導体、液晶製造における材料供給技術とノウハウを太陽電池製造に活用し、太陽電池の性能向上、製造コスト削減、ひいては太陽電池の普及促進、太陽電池業界のさらなる発展に貢献して行けるよう、努力してまいります。
昨年に引き続き、「PV EXPO2009」に出展しますので、どうか弊社ブースにお立ち寄りの上、係りの者にお声をお掛けください。

開催場所	：東京ビッグサイト　西展示棟
開催日	：2009年2月25日（水）～ 27日（金）
開催時間	：10：00AM ～ 5：00PM
ブース番号	：西1ホール　PV2-4

出展内容：

◆	特殊材料ガス（NF3、SiH4、CF4、NH3、H2Se 等）
◆	バルク特殊ガス供給システム（BSGS）
◆	Schumacher製品（次世代材料、Low-k／High-k材料、ケミカル供給装置、他）
◆	化合物半導体材料（SAFC HitechTM）
◆	PFC回収・精製装置システム（大同エアプロダクツ・エレクトロニクス/エア・ウォーター社）
◆	ドライアイススノー精密洗浄装置（エア・ウォーター社）
◆	大気圧プラズマ装置（エア・ウォーター社）
◆	キャパシタ用電極（エア・ウォーター社）
◆	高純度アンモニア（エア・ウォーター社）

＜本件に関するお問い合わせ先＞
〒542-0081
大阪府大阪市中央区南船場4-2-4
大同エアプロダクツ・エレクトロニクス株式会社
社長室　中島洋子
TEL：06-6120-0911 FAX：06-6120-0920

2009.02.01

Semicon Japan 2008 出展のご案内

世界中に波及してきた金融危機から半導体のみならず、あらゆる分野のリセッションが起きています。しかし、一方では太陽電池向けや次世代照明やFPD向けの投資が世界中で活発化しており、エレクトロニクス業界は、目先の経済情勢だけに捉われることなく、常に将来の環境、エネルギー問題を見据えた着実な取組みを続けています。
弊社は、先行きが不透明な局面にあっても、半導体関連技術の動向を性能、経済、環境の3面から捉え、お客様のニーズに的確にお応えするソリューション（新規材料及び周辺機器）の提供に力を入れております。
どうか弊社ブースにお立ち寄りの上、最新・最先端の製品、技術をご覧いただきます様、お願い申し上げます。

開催場所	：幕張メッセ
開催日	：2008年12月3日（水）～ 5日（金）
開催時間	：10：00AM ～ 5：00PM
ブース番号	：5B-501

出展内容：

出展テーマ

「先進技術で未来と地球に貢献する
　PROGRESSIVE TECHNOLOGY ～ for environment & the future 」

◆	オンサイト窒素ガス発生装置V1シリーズ
◆	オンサイトサービス
◆	特殊材料ガス（NF3、N2O、WF6、SiH4、C2F6、GeH4、 NH3、H2Se、プロピレン、Z3MSTM）
◆	バルク特殊ガス供給システム（BSGS）
◆	Schumacher製品（次世代材料、Low-k／High-k材料、ケミカル供給装置、他）
◆	エレクトロニクス向け研磨剤（ポリッシングスラリー）
◆	化合物半導体材料（SAFC HitecTM）
◆	PFC回収・精製装置システム（大同エアプロダクツ・エレクトロニクス/エア・ウォーター社）
◆	CMPスラリー供給装置（エア・ウォーター社）
◆	高真空エピタキシャル成長装置〔VCE〕（エア・ウォーター社）
◆	CO2精密洗浄（エア・ウォーター社）
◆	PSA窒素発生装置（エア・ウォーター社）
◆	窒素式脱酸素装置（エア・ウォーター社）
◆	O-RING（エア・ウォーター・マッハ社）

2008.12.01

PV EXPO 出展のご案内

太陽電池業界で世界トップレベルの技術を持つ日本で、初の本格的な国際展示会「PV EXPO2008」が開催されることになりました。
太陽電池業界は石油価格高騰による様々なものの価格高騰に加え、地球温暖化対策の切り札として大きな期待が寄せられております。弊社ではこれまで培ってきた半導体、液晶製造における材料供給技術とノウハウを太陽電池製造に活用し、太陽電池の性能向上、製造コスト削減、ひいては太陽電池の普及促進、日本の太陽電池業界のさらなる発展に貢献して行けますよう、努力してまいります。
どうか弊社ブースにお立ち寄りの上、係りの者にお声をお掛けください。

開催場所	：東京ビッグサイト　西展示棟
開催日	：2008年2月27日（水）～ 29日（金）
開催時間	：10：00AM ～ 5：00PM
ブース番号	：西3ホール　2-45

出展内容：

出展テーマ

「先進技術で未来と地球に貢献する
　PROGRESSIVE TECHNOLOGY ～ for environment & the future

◆	特殊材料ガス（NF3、SiH4、CF4、NH3、H2Se、等）
◆	バルク特殊ガス供給システム（BSGS）
◆	化合物半導体材料（SAFC HitechTM）
◆	Schumacher製品（ケミカル供給装置VaporGuard、他）
◆	CO2精密洗浄（エア・ウォーター社）
◆	パルスチューブ冷凍機〔GLOPUL〕（エア・ウォーター社）
◆	大気圧プラズマ装置（エア・ウォーター社）

2008.02.01

Semicon Japan 2007 出展のご案内

半導体デバイスは、微細化、高集積化、低消費電力化が加速する一方で、地球温暖化対策や資源材料の不足が大きな問題になってきております。さらに石油価格高騰による様々なものの価格高騰が起きています。エレクトロニクス産業界は、このような状況においても常に高性能化と低価格化が同時に求められています。
弊社は、刻一刻と様相を変えていく半導体関連技術の動向を性能、経済性、環境の3面から捉え、お客様のニーズに的確にお応えするソリューション（新規材料及び周辺機器）の提供に力を入れております。
どうか弊社ブースにお立ち寄りの上、最新・最先端の製品、技術をご覧いただきます様、お願い申し上げます。

開催場所	：幕張メッセ
開催日	：2007年12月5日（水）～ 7日（金）
開催時間	：10：00AM ～ 5：00PM
ブース番号	：5B-501

出展内容：

出展テーマ

「先進技術で未来と地球に貢献する
　PROGRESSIVE TECHNOLOGY ～ for environment & the future 」

◆	オンサイト窒素ガス発生装置V1シリーズ
◆	特殊材料ガス（NF3、N2O、WF6、SiH4、C2F6、GeH4、Propylene、Z3MSTM）
◆	バルク特殊ガス供給システム（BSGS）
◆	Schumacher製品（次世代材料、Low-k／High-k材料、ケミカル供給装置、他）
◆	エレクトロニクス向け研磨剤（ポリッシングスラリー）
◆	化合物半導体材料（SAFC HitecTM）
◆	PFC回収・精製装置システム（大同エアプロダクツ・エレクトロニクス/エア・ウォーター社）
◆	CMPスラリー供給装置（エア・ウォーター社）
◆	パルスチューブ冷凍機〔GLOPUL〕（エア・ウォーター社）
◆	高真空エピタキシャル成長装置〔VCE〕（エア・ウォーター社）
◆	大気圧プラズマ装置（エア・ウォーター社）
◆	CO2精密洗浄（エア・ウォーター社）
◆	O-RING（エア・ウォーター・マッハ社）

2007.12.01

Semicon Japan 2006 出展のご案内

セミコン・ジャパンも今年で30周年の節目を迎えますが、最新半導体関連技術情報を発信するという役割は色あせることなく、今後さらなる充実が期待されています。
半導体業界では今後も発展が予想されるデジタル家電に対応すべく、最新技術の導入と活発な設備投資を行っております。
弊社は、刻一刻と様相を変えていく半導体関連技術の動向を捉え、お客様のニーズに的確にお応えするソリューション（新規材料及び周辺機器）の提供に力を入れて参ります。
どうか弊社ブースにお立ち寄りの上、最新・最先端の製品、技術をご覧いただきます様、お願い申し上げます。

開催場所	：幕張メッセ
開催日	：2006年12月6日（水）～ 8日（金）
開催時間	：10：00AM ～ 5：00PM
ブース番号	：5B-509

出展内容：

出展テーマ「美しい未来へ、夢をふくらませるエレクトロニクスガス技術」

◆	オンサイト窒素ガス発生装置V1シリーズ
◆	特殊材料ガス（NF3、N2O、WF6、SiH4、C2F6、GeH4、NH3、プロピレン、Z3MSTM、GGT）
◆	バルク特殊ガス供給システム（BSGS）
◆	PFC回収装置システム
◆	Schumacher製品（次世代材料、Low-k／High-k材料、ケミカル供給装置、他）
◆	エレクトロニクス向け研磨剤（CMPスラリー、ポリッシングスラリー）
◆	化合物半導体材料（Epichem 他）
◆	CMPスラリー供給装置（エア・ウォーター社）
◆	パルスチューブ冷凍機〔GLOPUL〕（エア・ウォーター社）
◆	高真空エピタキシャル成長装置〔VCE〕（エア・ウォーター社）
◆	大気圧プラズマ装置（エア・ウォーター社）
◆	CO2精密洗浄（エア・ウォーター社）
◆	PSA窒素ガス発生装置〔BELLSWING〕（エア・ウォーター社）
◆	O-RING（AWIマッハ社）
◆	酸化マグネシウムターゲット材（タテホ化学工業社）
◆	総合防災システム（エア・ウォーター防災社）
◆	地震防災システム（沖環境テクノロジー）

2006.12.01

Semicon Japan 2005 出展のご案内

半導体業界は今後もダイナミックな成長が見込まれており、世界的規模で本格的なデジタルネットワークの時代に突入しようとしています。　日本の半導体業界には常に世界のリーダーとしての技術開発力が求められており、弊社は、急速に様相を変えていく半導体関連業界の動向を捉え、市場のニーズに適応するソリューション（新規材料及び周辺機器）の提供に力を入れてまいります。
今年は「美しい未来へ、夢をふくらませる　エレクトロニクスガス技術」をテーマに最新の情報を紹介いたしますので、どうぞ弊社ブースにお立ち寄りいただきます様、お願い申し上げます。

開催場所	：幕張メッセ
開催日	：2005年12月7日（水）～ 9日（金）
開催時間	：10：00AM ～ 5：00PM
ブース番号	：5B-604

出展内容：

◆	オンサイト窒素ガス発生装置V1シリーズ
◆	特殊材料ガス（NF3、N2O、WF6、SiH4、C2F6、GeH4、NH3、プロピレン、Z3MS^TM）
◆	バルク特殊ガス供給システム（BSGS）
◆	PFC回収装置システム
◆	電荷付加はんだ付雰囲気技術
◆	Schumacher製品（次世代材料、Low-k／High-k材料、ケミカル供給装置、他）
◆	エレクトロニクス向け研磨剤（CMPスラリー、ポリッシングスラリー）
◆	化合物半導体材料（Epichem 他）
◆	新型ガスキャビネット
◆	パルスチューブ冷凍機〔GLOPUL〕（エア・ウォーター社）
◆	高真空エピタキシャル成長装置〔VCE〕（エア・ウォーター社）
◆	大気圧プラズマ装置（エア・ウォーター社）
◆	CO2ドライスノー（エア・ウォーター社）
◆	O-RING（AWIマッハ社）
◆	PSA窒素ガス発生装置〔BELLSWING〕（エア・ウォーター・ベルパール社）

＜本件に関するお問い合わせ先＞
〒542-0081
大阪府大阪市中央区南船場4-2-4
大同エアプロダクツ・エレクトロニクス株式会社
特殊材料本部　中島洋子
TEL：06-6120-0913 FAX：06-6120-0920

2005.12.01

Semicon Japan 2004 出展のご案内

日本の半導体関連業界は昨年より目覚しい回復を遂げつつあり、 3年ぶりに活況を呈しております。今後、国際的に競争力のある分野は好調を持続すると見られています。
弊社もこのような業界に向け、新規材料の開発及び周辺機器に力を入れて行きたいと考えており、お客様に常に新しいニュースを提供していきたいと考えます。
どうか弊社ブースにお立ち寄りいただきます様、お願い申し上げます。

開催場所	：幕張メッセ
開催日	：2004年12月1日（水）～ 3日（金）
開催時間	：10：00AM ～ 5：00PM
ブース番号	：5A-601

出展内容：

◆	特殊材料ガス（NF3、N2O、WF6、SiH4、C2F6、GeH4、Z3MS^TM）
◆	バルク特殊ガス供給システム（BSGS）
◆	PFCソリューション（回収・リサイクル、チャンバークリーニングの最適化、除害、代替ガス）
◆	Schumacher製品（次世代材料、Low-k/High-k材料、ケミカル供給装置、他）
◆	エレクトロニクス向け研磨剤（CMPスラリー、ポリッシングスラリー）
◆	化合物半導体材料（Epichem 他）
◆	新型ガスキャビネット
◆	パルスチューブ冷凍機（GLOPUL）（エア・ウォーター社）
◆	高真空エピタキシャル（エア・ウォーター社）
◆	大気圧プラズマ装置（エア・ウォーター社）
◆	O-RING （AWIマッハ社）
◆	フッ素系洗浄液再生装置 & マルチコレクター（タイヨーテクノ社）

＜本件に関するお問い合わせ先＞
大同エアプロダクツ・エレクトロニクス株式会社
〒542-0081
大阪市中央区南船場4丁目2番4号
日本生命御堂筋ビル6階
事業開発本部　中島洋子
TEL：06-6120-0913
FAX：06-6120-0920

2004.12.01

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