＊品質方針
]]>尚、年内の営業は2010年12月29日午後3時までとなります。
ご迷惑をおかけしますが、何卒ご了承の程よろしくお願い申し上げます。
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大同エアプロダクツ・エレクトロニクス株式会社は、親会社であるエア・ウォーター株式会社の事務所移転に伴い、 下記のとおり、本社事務所・堺事務所を同社の新オフィスビル内に移転することとなりました。 これを機に、役員社員一同、従前にも増して、さらなる社業の発展のため努力いたす所存でございますので、 なにとぞ倍旧のお引き立てを賜りますようお願い申し上げます。
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＜本件に関するお問い合わせ先＞
〒542-0081
大阪府大阪市中央区南船場4-2-4
大同エアプロダクツ・エレクトロニクス株式会社
社長室 田邉 淳子
TEL：06-6120-0911 FAX：06-6120-0920
弊社は、セミコンジャパン２０１０にエア・ウォーターグループの一員として出展することとなり、これまでよりさらに小型化したPFC回収装置のデモ機をエア・ウォーターのブース内に展示させていただきます。また、同じブースにはPFC精製装置のデモ機も展示しておりますので是非エア・ウォーターのブースにお立ち寄りの上、実機をご覧いただきますようお願い申し上げます。
－記－
| 開催場所 | ：幕張メッセ |
| 開催日 | ：2010年12月1日（水）～ 3日（金） |
| 開催時間 | ：10：00AM ～ 5：00PM |
| ブース番号 |
：HALL6 6D-904 |
| ◆ | 【実機展示】新型PFC回収・精製装置 （大同エアプロダクツ・エレクトロニクス株式会社と共同開発） |
| ◆ | 【実機展示・実演】ドライアイススノー精密洗浄システム“Quick Snow” |
| ◆ | 【実機展示】小型液体窒素製造装置 |
| ◆ | 【製品展示】Ｒ．Ｐｏｒｏｒｏｃａ（Oリング製品）（エア・ウォーター・マッハ株式会社） |
| ◆ |
【実機展示】新型シリンダーキャビネットVSS-GC-MKII（エア・ウォーター・プラントエンジニアリング株式会社） |
| ◆ | 大気圧プラズマ装置 |
| ◆ | 高純度アンモニア |
| ◆ |
防振・吸音材料（エア・ウォーター・マッハ株式会社） |
以上
＜本件に関するお問い合わせ先＞
〒592-8331
大阪府堺市西区築港新町２丁６番４０
大同エアプロダクツ・エレクトロニクス株式会社
製造・エンジニアリング本部 村上 康弘
TEL：072-244-6704 FAX：072-244-6702
| 開催場所 | ：東京ビッグサイト 東展示棟 |
| 開催日 | ：2010年3月3日（水）～3月5日（金） |
| 開催時間 | ：10:00 ～ 18:00 （5日のみ 17:00 終了） |
| ブース番号 | ：部品・材料ゾーン 24-3（エア・ウォーター株式会社との共同出展） |
出展内容：
| ◆ | セレン化水素（H2Se）及び特殊ガス大量供給システム（BSGS） |
| ◆ | オキシ塩化リン バルク供給システム |
| ◆ | PFC回収・精製・再使用システム（エア・ウォーター社との共同出展） |
| ◆ | ドライアイススノーシステム「QuickSnow」（エア・ウォーター社） |
| ◆ | 大気圧プラズマ表面処理装置 |
| ◆ | 電極材「ベルファイン」ならびに塗布電極「ATEC」（エア・ウォーター社） |
| ◆ | 高純度アンモニア（エア・ウォーター社） |
＜本件に関するお問い合わせ先＞
〒542-0081
大阪府大阪市中央区南船場4-2-4
大同エアプロダクツ・エレクトロニクス株式会社
社長室 西岡 晴夫
TEL：06-6120-0911 FAX：06-6120-0920
| 開催場所 | ：幕張メッセ |
| 開催日 | ：2009年12月2日（水）～ 4日（金） |
| 開催時間 | ：10：00AM ～ 5：00PM |
| ブース番号 | ：6A-505 |
| 出展テーマ | 「先進技術で未来と地球に貢献する PROGRESSIVE TECHNOLOGY ～ for environment & the future 」 |
| ◆ | 回収熱供給サービス |
| ◆ | 特殊材料ガス（NF3、N2O、WF6、SiH4、C2F6、GeH4、NH3、H2Se、C3H6、Xe、Z3MSTM） |
| ◆ | バルク特殊ガス供給システム（BSGS） |
| ◆ | Schumacher製品（次世代材料、Low-k／High-k材料、ケミカル供給装置、他） |
| ◆ | 化合物及びシリコン半導体用材料（SAFC HitechTM） |
| ◆ | 有機金属供給装置（MOsupply） |
| ◆ | PFC回収・リサイクルシステム（大同エアプロダクツ・エレクトロニクス/エア・ウォーター社） |
| ◆ | 新型シリンダーキャビネットVSS-GC-MKII（エア・ウォーター社） |
| ◆ | 高純度アンモニア（エア・ウォーター社） |
| ◆ | CO2ドライスノー（エア・ウォーター社） |
| ◆ | 大気圧プラズマ（エア・ウォーター社） |
| ◆ | O-リング（エア・ウォーター・マッハ社） |
| ◆ | 制振材料（エア・ウォーター・マッハ社） |
弊社は、平成21年6月29日開催の定時株主総会において新役員を選任し、取締役会において田中良典を代表取締役社長に選定しましたことをお知らせします。なお、前社長の髙橋俊一は、取締役として引き続き経営のサポートにあたります。また、他の役員につきましても下記の陣容で臨むこととなりましたので、あわせてお知らせします。
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| 開催場所 | ：東京ビッグサイト 西展示棟 |
| 開催日 | ：2009年2月25日（水）～ 27日（金） |
| 開催時間 | ：10：00AM ～ 5：00PM |
| ブース番号 | ：西1ホール PV2-4 |
| ◆ | 特殊材料ガス（NF3、SiH4、CF4、NH3、H2Se 等） |
| ◆ | バルク特殊ガス供給システム（BSGS） |
| ◆ | Schumacher製品（次世代材料、Low-k／High-k材料、ケミカル供給装置、他） |
| ◆ | 化合物半導体材料（SAFC HitechTM） |
| ◆ | PFC回収・精製装置システム（大同エアプロダクツ・エレクトロニクス/エア・ウォーター社） |
| ◆ | ドライアイススノー精密洗浄装置（エア・ウォーター社） |
| ◆ | 大気圧プラズマ装置（エア・ウォーター社） |
| ◆ | キャパシタ用電極（エア・ウォーター社） |
| ◆ | 高純度アンモニア（エア・ウォーター社） |
| 開催場所 | ：幕張メッセ |
| 開催日 | ：2008年12月3日（水）～ 5日（金） |
| 開催時間 | ：10：00AM ～ 5：00PM |
| ブース番号 | ：5B-501 |
| 出展テーマ | 「先進技術で未来と地球に貢献する PROGRESSIVE TECHNOLOGY ～ for environment & the future 」 |
| ◆ | オンサイト窒素ガス発生装置V1シリーズ |
| ◆ | オンサイトサービス |
| ◆ | 特殊材料ガス（NF3、N2O、WF6、SiH4、C2F6、GeH4、 NH3、H2Se、プロピレン、Z3MSTM） |
| ◆ | バルク特殊ガス供給システム（BSGS） |
| ◆ | Schumacher製品（次世代材料、Low-k／High-k材料、ケミカル供給装置、他） |
| ◆ | エレクトロニクス向け研磨剤（ポリッシングスラリー） |
| ◆ | 化合物半導体材料（SAFC HitecTM） |
| ◆ | PFC回収・精製装置システム（大同エアプロダクツ・エレクトロニクス/エア・ウォーター社） |
| ◆ | CMPスラリー供給装置（エア・ウォーター社） |
| ◆ | 高真空エピタキシャル成長装置〔VCE〕（エア・ウォーター社） |
| ◆ | CO2精密洗浄（エア・ウォーター社） |
| ◆ | PSA窒素発生装置（エア・ウォーター社） |
| ◆ | 窒素式脱酸素装置（エア・ウォーター社） |
| ◆ | O-RING（エア・ウォーター・マッハ社） |
| 移転先： 〒739-0153広島県東広島市吉川工業団地5679番地1 大同エアプロダクツ・エレクトロニクス株式会社 広島ガスセンター内 TEL：082-420-9123 FAX：082-429-4015 |
| 開催場所 | ：東京ビッグサイト 西展示棟 |
| 開催日 | ：2008年2月27日（水）～ 29日（金） |
| 開催時間 | ：10：00AM ～ 5：00PM |
| ブース番号 | ：西3ホール 2-45 |
| 出展テーマ | 「先進技術で未来と地球に貢献する PROGRESSIVE TECHNOLOGY ～ for environment & the future |
| ◆ | 特殊材料ガス（NF3、SiH4、CF4、NH3、H2Se、等） |
| ◆ | バルク特殊ガス供給システム（BSGS） |
| ◆ | 化合物半導体材料（SAFC HitechTM） |
| ◆ | Schumacher製品（ケミカル供給装置VaporGuard、他） |
| ◆ | CO2精密洗浄（エア・ウォーター社） |
| ◆ | パルスチューブ冷凍機〔GLOPUL〕（エア・ウォーター社） |
| ◆ | 大気圧プラズマ装置（エア・ウォーター社） |
| 開催場所 | ：幕張メッセ |
| 開催日 | ：2007年12月5日（水）～ 7日（金） |
| 開催時間 | ：10：00AM ～ 5：00PM |
| ブース番号 | ：5B-501 |
| 出展テーマ | 「先進技術で未来と地球に貢献する PROGRESSIVE TECHNOLOGY ～ for environment & the future 」 |
| ◆ | オンサイト窒素ガス発生装置V1シリーズ |
| ◆ | 特殊材料ガス（NF3、N2O、WF6、SiH4、C2F6、GeH4、Propylene、Z3MSTM） |
| ◆ | バルク特殊ガス供給システム（BSGS） |
| ◆ | Schumacher製品（次世代材料、Low-k／High-k材料、ケミカル供給装置、他） |
| ◆ | エレクトロニクス向け研磨剤（ポリッシングスラリー） |
| ◆ | 化合物半導体材料（SAFC HitecTM） |
| ◆ | PFC回収・精製装置システム（大同エアプロダクツ・エレクトロニクス/エア・ウォーター社） |
| ◆ | CMPスラリー供給装置（エア・ウォーター社） |
| ◆ | パルスチューブ冷凍機〔GLOPUL〕（エア・ウォーター社） |
| ◆ | 高真空エピタキシャル成長装置〔VCE〕（エア・ウォーター社） |
| ◆ | 大気圧プラズマ装置（エア・ウォーター社） |
| ◆ | CO2精密洗浄（エア・ウォーター社） |
| ◆ | O-RING（エア・ウォーター・マッハ社） |
| 事業内容 | ： | 研究試薬・機器・消耗品およびファインケミカル品（医薬、バイオサイエンス、電子材料、受託有機合成）の製造販売 | |
| 本社所在地 | ： | 米国、ミズーリ州、セントルイス | |
| 代表社名 | ： | Jai Nagarkatti （CEO、最高経営責任者） | |
| 資本金 | ： | 2億180万ドル（資本金、Common Stock）NASDAQ（米）上場 | |
| 設立年 | ： | 1946年 | |
| 売上規模 | ： | 18億ドル（2006年度） | |
| 従業員数 | ： | 7,700名（2007年8月現在） |
| 開催場所 | ：幕張メッセ |
| 開催日 | ：2006年12月6日（水）～ 8日（金） |
| 開催時間 | ：10：00AM ～ 5：00PM |
| ブース番号 | ：5B-509 |
| ◆ | オンサイト窒素ガス発生装置V1シリーズ |
| ◆ | 特殊材料ガス（NF3、N2O、WF6、SiH4、C2F6、GeH4、NH3、プロピレン、Z3MSTM、GGT） |
| ◆ | バルク特殊ガス供給システム（BSGS） |
| ◆ | PFC回収装置システム |
| ◆ | Schumacher製品（次世代材料、Low-k／High-k材料、ケミカル供給装置、他） |
| ◆ | エレクトロニクス向け研磨剤（CMPスラリー、ポリッシングスラリー） |
| ◆ | 化合物半導体材料（Epichem 他） |
| ◆ | CMPスラリー供給装置（エア・ウォーター社） |
| ◆ | パルスチューブ冷凍機〔GLOPUL〕（エア・ウォーター社） |
| ◆ | 高真空エピタキシャル成長装置〔VCE〕（エア・ウォーター社） |
| ◆ | 大気圧プラズマ装置（エア・ウォーター社） |
| ◆ | CO2精密洗浄（エア・ウォーター社） |
| ◆ | PSA窒素ガス発生装置〔BELLSWING〕（エア・ウォーター社） |
| ◆ | O-RING（AWIマッハ社） |
| ◆ | 酸化マグネシウムターゲット材（タテホ化学工業社） |
| ◆ | 総合防災システム（エア・ウォーター防災社） |
| ◆ | 地震防災システム（沖環境テクノロジー） |
